構成專利侵權的條件

構成專利侵權的條件如下：
1、行為人的行為侵犯了專利權的保護範圍；
2、行為表現為未經專利權人的許可或者授權，使用他人的專利，且以生產經營為目的；
3、行為人主觀存在過錯；
4、過錯與權利人受到的損失存在因果關係。
法律依據：
《專利法》第六十四條
發明或者實用新型專利權的保護範圍以其權利要求的內容為準，説明書及附圖可以用於解釋權利要求的內容。外觀設計專利權的保護範圍以表示在圖片或者照片中的該產品的外觀設計為準，簡要説明可以用於解釋圖片或者照片所表示的該產品的外觀設計。