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專利間接侵權的構成要件

法律1.12W
專利間接侵權的構成要件
專利侵權的構成要件包括
專利權是專利人利用其發明創造的獨佔權利,專利侵權是指未經專利權人許可,以生產經營為目的,實施了依法受保護的有效專利的違法行為。 構成專利侵權的實質要件,也就是技術條件,實質實施行為是否屬於專利的保護範圍。如果行為人所涉及的技術特徵屬於專利權的保護範圍,那麼該行為人就構成了專利侵權。專利侵權的構成要件包括以下幾種表現形式: 1)行為人所涉及的技術特徵與專利的技術特徵全部相同,則構成侵權; 2)行為人所涉及的技術特徵多於專利的技術特徵,也構成侵權; 3)行為人所涉及的技術特徵與專利的技術特徵有相同的,有相異的,但是,相異的技術特徵與專利的技術特徵是等效的,仍構成侵權;否則,不構成侵權。這裏技術特徵等效,是指所屬技術領域的普通技術人員你那能夠推斷出某兩種技術特徵彼此替換後,所產生的效果相同。